《科創(chuàng)板日報》19日訊，Rapidus已開始在位于北海道的在建芯片制造工廠安裝日本首臺ASML極紫外(EUV)光刻設(shè)備。 公司正與IBM合作，計劃于2025年春季采用最先進的2nm工藝開發(fā)原型芯片，并于2027年實現(xiàn)量產(chǎn)。 (NIKKEI)